日本高清视频在线www色,欧美乱妇狂野欧美在线视频,女人荫蒂被添全过程a1片,欧美精品一区二区三区在线

簡要描述：低真空化學氣相沉積設備是一種化學氣相沉積技術(shù)，利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應。表面的反應是形成固化材料的原因。

簡要描述：電漿輔助式化學氣相沉積設備是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術(shù)，可為沉積反應提供一些能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，PECVD可以在較低的溫度下沉...

簡要描述：化學氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環(huán)境中制造...

簡要描述：PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200根據(jù)其模塊化設計，PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。

簡要描述：帶預真空室的化學氣相沉積設備SI 500 PPD的特色是預真空室和干泵裝置，用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學氣相沉積過程。

簡要描述：等離子沉積設備SI 500 D低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)...

簡要描述：化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相...

簡要描述：三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真...

簡要描述：SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。

簡要描述：原子層沉積設備：真遠程等離子體源能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟...

簡要描述：PECVD等離子沉積設備Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備，它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設...

簡要描述：帶預真空室的化學氣相沉積設備PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標...

簡要描述：等離子沉積設備低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能。

簡要描述：X射線探傷機X 射線工業(yè)設備用于控制產(chǎn)品質(zhì)量，如應用于汽車、航空航天、管件、研究所和食品等不同行業(yè)。此外，制造的 X 射線設備也應用于醫(yī)療和安檢部門。...

簡要描述：徠卡Leica顯微鏡DM6M的技術(shù)參數(shù)徠卡Leica顯微鏡DM4B屬于正置數(shù)字科研生物顯微鏡，是生物研究和實驗室應用的理想之選，該顯微鏡可以連接照相設...

簡要描述：徠卡DM2000三目正置生物顯微鏡組織觀察徠卡DM2000屬于徠卡正置顯微鏡中熒光系列生物顯微鏡，屬于一臺適用于生物學常規(guī)和研究應用的正置生物顯微鏡，...

簡要描述：徠卡Leica顯微鏡DM750經(jīng)銷商徠卡Leica顯微鏡DM750是一臺常規(guī)的正置生物顯微鏡，多用于教學和實驗時的研究，在教學方面，徠卡DM750配置...

簡要描述：徠卡Leica顯微鏡DM1000的維護與保養(yǎng)徠卡Leica顯微鏡DM1000在使用過程中難免會由于樣品積淀產(chǎn)生污垢，或者因為存放環(huán)境的不合理，導致顯微...

簡要描述：徠卡Leica顯微鏡S9i的技術(shù)參數(shù)徠卡體視顯微鏡S9i體視顯微鏡在不斷提高生產(chǎn)的基礎上降低了缺陷率，滿足廣大用戶的需求，隨著新一代的Greenoug...

簡要描述：徠卡Leica顯微鏡DM6M應用領域徠卡DM6M金相顯微6孔位電動物鏡轉(zhuǎn)盤，配接的32mm直徑工業(yè)物鏡以及可實現(xiàn)自動明場、偏光、暗場、干涉的觀察方式等...