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簡要描述：電子束蒸鍍設(shè)備是一種實用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)...

簡要描述：電子束蒸鍍?yōu)橐环N物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，其中電子束是由鎢絲所產(chǎn)生的，並受到電場和磁場的驅(qū)動而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)以沉積在基板表...

簡要描述：多層膜磁控濺鍍設(shè)備廣泛用於各個領(lǐng)域，而對於精密系統(tǒng)則需要更嚴(yán)格的規(guī)格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中，高質(zhì)量多層膜...

簡要描述：Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam憑借其的聚焦離子束和電子束性能、專有軟件、自動化和易用性特征，重新定義了樣品制備和...

簡要描述：具有分辨率的直接激光刻錄機PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵...

簡要描述：激光光刻系統(tǒng)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率...

簡要描述：大面積 SEM 成像通過 CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克

簡要描述：聚焦離子束掃描電鏡系統(tǒng)用于以 FIB 為中心的納米加工的 FIB-SEMVELION 是一種用于納米科學(xué)與工程的新型 FIB-SEM 儀器概念。FIB...

簡要描述：專用電子束光刻系統(tǒng)這些創(chuàng)新、智能配置的電子束光刻系統(tǒng)可以輕松有效地實現(xiàn)納米加工。所有 Raith EBL 系統(tǒng)都配備了高精度激光干涉儀平臺和圖案發(fā)生器...

簡要描述：刻蝕系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以...

簡要描述：集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿...

簡要描述：橢偏反射儀性能優(yōu)異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。

簡要描述：國產(chǎn)電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編...

簡要描述：德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編...

簡要描述：X射線顯微鏡：作為Xradia Versa系列中前沿的產(chǎn)品，蔡司顯微鏡在科研和工業(yè)研究領(lǐng)域為您開啟多樣化應(yīng)用的新高度。基于高分辨率和襯度成像技術(shù)，Xr...

簡要描述：原子層蝕刻設(shè)備是一種的蝕刻技術(shù)，可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深度。隨著元件尺寸的進一步減小，需要進一步的使用ALE才能達(dá)到其所需的精度。

簡要描述：感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上，添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍，將充當(dāng)...

簡要描述：反應(yīng)離子蝕刻設(shè)備中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性，并具有重復(fù)性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。

簡要描述：RIE等離子刻蝕機SI 591：預(yù)真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模...

簡要描述：等離子刻蝕機由于離子能量低，離子能量分布帶寬窄，因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI 500進行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。