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簡要描述：景深數(shù)碼顯微鏡蔡司公司面向發(fā)布一款智能3D數(shù)碼顯微鏡Smartzoom5，這是一款為工業(yè)質(zhì)量控制領(lǐng)域及研究方向的客戶提供的一項全新解決方案?？蓪悠愤M...

簡要描述：結(jié)合橢偏反射性能優(yōu)異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。

簡要描述：多角度激光橢偏儀性能優(yōu)異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。

簡要描述：激光橢偏儀SE 400adv可用于從可選擇的、應(yīng)用特定的入射角度表征單層薄膜和基片。自動準(zhǔn)直透鏡確保在大多數(shù)平坦反射表面的吸收或透明襯底上進行準(zhǔn)確測量...

簡要描述：綜合薄膜測量軟件集成的色散模型用于描述所有常用材料的光學(xué)特性。利用快速擬合算法，通過改變模型參數(shù)將計算得到的光譜調(diào)整到實測光譜。

簡要描述：臺式薄膜探針反射儀二十年來，SENTECH已經(jīng)成功地銷售了用于各種應(yīng)用的薄膜厚度探針FTPadv。這種臺式反射儀的特點是不管在低溫或高溫下，在工業(yè)或研...

簡要描述：反射膜厚儀我們的反射儀的特點是通過樣品的高度和傾斜調(diào)整進行準(zhǔn)確的單光束反射率測量，光學(xué)布局的高光導(dǎo)允許對n和k進行重復(fù)測量，對粗糙表面進行測量以及對非...

簡要描述：全金屬密封磁控濺射靶槍是一種用于磁控濺射技術(shù)的設(shè)備，主要由金屬制成的密封容器和靶材組成。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于各種薄膜制備工藝中，如光學(xué)薄膜、電子薄膜、磁...

簡要描述：超高真空磁控濺射外延系統(tǒng)是一種的薄膜制備設(shè)備，結(jié)合了超高真空技術(shù)和磁控濺射技術(shù)，用于在襯底上外延生長高質(zhì)量的薄膜材料。

簡要描述：有機材料熱蒸鍍設(shè)備：該過程需要通過精確控制溫度和沉積速率來實現(xiàn)薄膜的高精度和均勻性。

簡要描述：金屬熱蒸鍍設(shè)備：熱蒸發(fā)是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機和無機薄膜，其中以電阻式加...

簡要描述：熱蒸鍍設(shè)備是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基...

簡要描述：FPD-PVD磁控濺鍍設(shè)備針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PVD 設(shè)備，擁有4個單獨的濺鍍腔體，讓客戶能任意搭配沉積的材料，同時保有彈性和具有選擇性的系統(tǒng)...

簡要描述：連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備：In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個或多個濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個真空腔內(nèi)。

簡要描述：超高真空磁控濺鍍設(shè)備超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，且在化學(xué)、物理和工程領(lǐng)域十分常見。

簡要描述：磁控共濺鍍設(shè)備是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍，濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料，通過分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍（靶材）的功率來控制...

簡要描述：磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術(shù)中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基...

簡要描述：激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優(yōu)勢。它能在高真空、真空條件下實現(xiàn)原位實時監(jiān)控...

簡要描述：剝離成形電子束設(shè)備：對于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以采用 Lift...

簡要描述：超高真空電子束蒸鍍設(shè)備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分常見。超高真空環(huán)境對于科學(xué)研究非常重要，因為實驗通...